SIEVEWELLを用いたシングルセルのin situ Hybridization

1. in situ Hybridization(ISH)の概要

ISHの基本フロー

  1. 試料固定(細胞・組織の構造保持)
  2. 透過化(プローブ侵入)
  3. プローブのハイブリダイゼーション
  4. 非特異的結合の除去(洗浄)
  5. シグナル検出(蛍光または発色)

2. ISHの技術的発展と課題

従来のISH(特にFISH/CISH)は強力な手法である一方、以下の課題が存在する。

課題

  • 感度不足(低コピーmRNA検出が困難)
  • バックグラウンドシグナル
  • 多段階プロトコル(酵素反応やProK処理)
  • 時間・手間が大きい

これらを解決するために近年発展したのが、シグナル増幅技術(HCR, SABERなど)である。

RNA scope(branched DNA系)

標的RNAに隣接して結合する2本のプローブをトリガーとして、多段階のbranched DNA構造を形成し蛍光プローブを多数結合させる手法。高感度・高特異性で臨床・組織解析に広く使われる。

PLISH(Proximity Ligation ISH)

2本のプローブが同一RNA上で近接したときのみDNAライゲーションが起こり、環状DNAを形成しRolling Circle Amplification(RCA)で増幅する。近接依存により非常に高い特異性を持ち、シングル分子検出が可能だが、酵素反応への依存性がある。

SABER(Signal Amplification by Exchange Reaction)

標的プローブにあらかじめ設計したDNA concatemer(繰り返し配列)を結合させ、多数の蛍光プローブを付加することでシグナルを増幅する。酵素不要で再現性が高く、多重化に強いが、事前設計が必要。

in situ Hybridization Chain Reaction

ヘアピンDNAの自己組織化連鎖反応により、酵素を用いずに蛍光DNAを重合させて増幅する手法。

4. SIEVEWELLを用いたin situ Hybridization Chain Reaction

ISHpalette™を使用したB8/3(マウス赤白血病細胞株)のGAPDHを検出した例を示す。ISHpalette™は、東邦大学の恒岡洋右准教授が開発した技術をベースにネッパジーン社が製品化しており、標的配列に対する短いオリゴDNAをデザインすることで高い特異性と感度を実現している。

  • ヘアピンDNA IPL-R-S41 ISHpalette™ Short hairpin amplifier, ATTO550-S41 ネッパジーン
  • ハイブリダイゼーションバッファー IPL-HB ISHpalette™ Hybridization buffer ネッパジーン
  • アンプリフィケーションバッファー IPL-AB ISHpalette™ Amplification buffer ネッパジーン
  • ターゲットプローブ mouse GAPDH

ターゲットプローブ配列

Probe1
Gapdh-17-P1S41 GCTCGACGTaaCCTGATGAACCTAAGCTGGGACCCC
Gapdh-120-P1S41 GCTCGACGTaaGCAAATGGCAGCCCTGGTGACCAGG
Gapdh-174-P1S41 GCTCGACGTaaGTAGTTGAGGTCAATGAAGGGGTCG
Gapdh-258-P1S41 GCTCGACGTaaGTTGATGACAAGCTTCCCATTCTCG
Gapdh-342-P1S41 GCTCGACGTaaAGACTCCACGACATACTCAGCACCG
Gapdh-456-P1S41 GCTCGACGTaaGTTCACACCCATCACAAACATGGGG
Gapdh-547-P1S41 GCTCGACGTaaTGTCATGGATGACCTTGGCCAGGGG
Gapdh-677-P1S41 GCTCGACGTaaGATGCAGGGATGATGTTCTGGGCAG
Gapdh-729-P1S41 GCTCGACGTaaCTTCCCGTTCAGCTCTGGGATGACC
Gapdh-814-P1S41 GCTCGACGTaaCATACTTGGCAGGTTTCTCCAGGCG

Probe2
Gapdh-17-P2S41 GGACGAGGAAACACTCTCCTGAGTTaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-120-P2S41 GATGGCAACAATCTCCACTTTGCCAaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-174-P2S41 GGAGTCATACTGGAACATGTAGACCaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-258-P2S41 CTCCTGGAAGATGGTGATGGGCTTCaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-342-P2S41 CTTCTCCATGGTGGTGAAGACACCAaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-456-P2S41 CTTGAGTGAGTTGTCATATTTCTCGaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-547-P2S41 TCATGAGCCCTTCCACAATGCCAAAaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-677-P2S41 TTGCCCACAGCCTTGGCAGCACCAGaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-729-P2S41 AGGAACACGGAAGGCCATGCCAGTGaaTCCTTTGCAACA
Gapdh-814-P2S41 CCTGCTTCACCACCTTCTTGATGTCaaTCCTTTGCAACA

  1. Load cells into SIEVEWELL Hex20​
  2. 4% PFA 10 min RT​
  3. Washing with PBST RT x3​
  4. 100% EtOH 10 min RT​
  5. Washing with PBST RT x3​
  6. Pre-hybridization RT 5 min​
  7. Hybridization at 37 ℃ Overnight​
  8. Washing with 0.5× SSCT at 37 ℃x3​
  9. Pre-amplification with Amplification Buffer at 25 ℃ for ≥ 5 min​
  10. Amplification: Amplification Buffer containing Short hairpin amplifiers at 25 ℃, 2 hours​
  11. Washing with PBST at 37 ℃ x3​
  12. Washing with PBS at RT x1​
  13. Mounting

サイドポートから吸引して余剰の液体を除く。

上部のチャンバー部分を取り外す。

包埋剤を10 μL添加する。

直径15㎜のカバーガラスをフィルター部分に置く。

チャンバー部分を24×50 mmのカバーガラスに置く。

左から、位相差、DAPI、GAPDH、DAPI+GAPDH

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